後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発
| プロジェクト名 | 後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発 |
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| 分野 | バイオテクノロジー・医療技術 |
| 目的 | 「後天的ゲノム修飾(エピゲノム)」とは、ゲノム（DNA）に対して、生体内で日常的に行われる化学反応のことであり、がんや生活習慣病などの後天的疾患の原因として重要な因子であることが近年の研究により判明しています。 |
| 紹介 | 本事業では、後天的ゲノム修飾を標的としたがんの診断及び新薬開発に必要となる基盤を構築するため、がんに特異的な後天的ゲノム修飾を特定する高感度な解析技術や情報処理技術を開発し、その実証を行います。 開発した技術については、後天的ゲノム修飾を解析するがんの診断装置として実用化を目指すとともに、後天的ゲノム修飾を標的とした医薬品の開発に応用することにより、患者それぞれの疾患原因に応じた最適な医薬品を提供する個別化医療の実現に貢献します。 |
| キーワード | |
| 開始-終了年度 | 2010-2015/3/31 |
| 代表者 | 経済産業省から（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）へ交付金を交付し、ＮＥＤＯから民間企業等へ委託し、研究開発を行います。 PL：油谷 浩幸（東京大学先端科学技術研究センター ゲノムサイエンス分野 教授） |
| 代表者所属組織 | 情報源：http://www.meti.go.jp/policy/mono_info_service/mono/bio/Kennkyuukaihatsu/health/epigenome/index.html |
| 予算 | 2.4億円(H23年度) |
| 代表委託機関 | 経済産業省から（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）へ交付金を交付し、ＮＥＤＯから民間企業等へ委託し、研究開発を行います。 PL：油谷 浩幸（東京大学先端科学技術研究センター ゲノムサイエンス分野 教授） |
| 参加機関 | 東京大学先端科学技術研究センタ- 国立大学法人東京大学 エピゲノム技術研究組合 ・株式会社未来創薬研究所 ・協和発酵キリン株式会社 ・産業技術総合研究所 他 国立大学法人東京医科歯科大学 学校法人日本大学 理化学研究所 国立大学法人東京工業大学 国立大学法人北海道大学 |
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